光电展
展会时间：2022年3月2日-3日 （线上展会）
举办周期：每年一届
主办方：美国国际光学工程协会SPIE
展会简介
2022美国SPIE光刻技术博览会是推动未来光刻研究及应用的重要展会。同时也为参展商与其他领域的合作伙伴共同寻求新的合作机会。SPIE先进光刻技术会议（SPIE Advanced Lithography2022）是全球领先的光刻技术盛会，大会涵盖诸如光学光刻技术、EUV光刻技术、新型图案化技术、测量、检测和光刻工艺控制、材料及工艺改进、设计工艺协同优化以及先进刻蚀等领域的先进光刻与图形化技术。对于材料供应商、设备制造商及先进芯片生产商来说，都是不可错过的一场技术大餐。2020年展会共有54家参展商，展期共有7场会议，15场课程培训，500余份技术论文，吸引2100名与会者。
为什么要参展？
1）与行业专家面对面交流并观摩该行业最先进的科技装备。
2）对行业领域最新研发的产品和研究成果，企业可现场见到相关的专家人员（科学家，工程师，开发人员）并同时能够对其进行比较和分析。
3）到圣何塞与当地供应商和项目合作伙伴建立合作联系。
参展范围：
光刻：浸入式，双重图案，电子束，EUV，光学/激光，RET
计量，检查，OPC和过程控制
设计和制造软件
材料和化学品
成像设备
激光器
抵制材料和加工
纳米压印
IC和芯片制造
纳米级成像
用于纳米图案的蚀刻技术
2022年会议主题：
• Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
• Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS
• Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography
• Advances in Patterning Materials and Processes
• Optical Microlithography
• Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability
• Advanced Etch Technology for Nanopatterning
现场图片：
上海品恩展览有限公司
Shanghai PINEN Exhibition CO.LTD
上海品恩展览有限公司（PE）是一家提供国际展览展示服务的专业机构。成立伊始，我公司就把“服务贸易，立足诚信与专业”作为公司的宗旨，主要从事大型境外展会组织与服务、展台设计搭建、国际货运代理、国际商贸咨询、商务考察办理、出国签证协助服务、海外市场推广等国际商务及延伸服务。
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