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光电展

2021年SPIE光刻技术博览会SPIE Advanced Lithography

文字:[大][中][小] 手机页面二维码 2018/11/6     浏览次数:    

    

点击下载:   2021年展商名单    2021年展位图

展会时间:20212月23-24                    举办周期:每年一届

展会地点:美国加利福尼亚圣何塞会展中心               主办方:美国国际光学工程协会SPIE

 

展会简介

2021美国SPIE光刻技术博览会是推动未来光刻研究及应用的重要展会。同时也为参展商与其他领域的合作伙伴共同寻求新的合作机会。SPIE先进光刻技术会议(SPIE Advanced Lithography2021)是全球领先的光刻技术盛会,大会涵盖诸如光学光刻技术、EUV光刻技术、新型图案化技术、测量、检测和光刻工艺控制、材料及工艺改进、设计工艺协同优化以及先进刻蚀等领域的先进光刻与图形化技术。对于材料供应商、设备制造商及先进芯片生产商来说,都是不可错过的一场技术大餐2020年展会共有54家参展商,展期共有7场会议,15场课程培训,500余份技术论文,吸引2100名与会者。

 

 

为什么要参展?

1)与行业专家面对面交流并观摩该行业最先进的科技装备。

2)对行业领域最新研发的产品和研究成果,企业可现场见到相关的专家人员(科学家,工程师,开发人员)并同时能够对其进行比较和分析。

3)到圣何塞与当地供应商和项目合作伙伴建立合作联系。

 

 

参展范围:

光刻:浸入式,双重图案,电子束,EUV,光学/激光,RET

计量,检查,OPC和过程控制

设计和制造软件

材料和化学品

成像设备

激光器

抵制材料和加工

纳米压印

IC和芯片制造

纳米级成像

用于纳米图案的蚀刻技术

 

 

2020年会议主题:

• Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

• Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS

• Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography

• Advances in Patterning Materials and Processes

• Optical Microlithography

• Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability

• Advanced Etch Technology for Nanopatterning

 

现场图片:

                 

                  

 


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